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[FST]

211025 대신) 이수빈 3만
가장 적극적인 EUV 전용 소재/장비사
-일본 미츠이케미칼은 EUV 전용 펠리클을 판매하기 위해 ASML 과 라이선스 계약을 체결
 지난 5월 EUV 전용 펠리클 양산을 시 작했다고 발표함.
 이에 따라, 2022년 하반기에 양산 예정인 TSMC의 N3 공정에서는 EUV 펠리클을 사용할 가능성 대두
-에프에스티는 ArF 및 ArF-i 전용 펠리클에서 약 80%의 시장점유율을 보유
  EUV 전용 펠리클 양산 또한 SiC 기반으로 준비
-EUV 마스크 자동 탈부착장비(EMPD), EUV 펠리클 검사장비 (EPIS), EUV POD 검사장비(EPODIS) 등 EUV 노광 공정 전용 신규장비 도 고객사로부터 긍정적인 평가 결과 도출 ->22년 매출 기대

200907,SK증권)

-국내 1위 펠리클(포토마스크 오염방지 부품, 국내 반도체 펠리클 M/S80% 수준)생산업체로,EUV용 펠리클개발 성공에 대한 기대감 존재.

-전자부품연구원 주도의 ‘5나노급 이하 반도체 노광공정용 EUV흡수 및 투과 소재기술’ 개발 국책과제 참여 중

-ASML과 펠리클 선두업체 Mitsui Chemical이 2019년 5월 31일 EUV펠리클관련 기술협약 체결하며 EUV공정에서 펠리클 필요성 부각

  ->FST랑은 상관이 없음

-EUV용 펠리클 단가는 개당 가격이 2,000만원~3,000만원 사이로 추정돼,개발 성공시 기존 펠리클 사업부에 큰 업사이드 보유(기존 제품인 ArF 펠리클은 개당 수백만원 수준).

-삼성전자 신규라인(시안, 평택)과 중국 디스플레이 관련 투자 사이클에 따른 실적 성장 예상. EUV 산업동향 및

에프에스티의 실리콘카바이드(SiC) 기반 EUV용 펠리클 개발 현황에 주목이 필요 

 

201218, DB)

-반도체 부품 + 장비:

-펠리클 맛집:

-튼튼한 자회사:반도체 막의 Overlay 계측 장비를 생산하는 오로스테크놀로지

                     EUV 마스크 결함이나 패턴을 검사하는 이솔

                     정밀세라믹부품 프로브카드업체 화인세라텍이다

 

[SST]

210716 하나 김경민) 
시설 투자를 결정한 이유는 EUV(극자외선) 노광 장비용 블랭크 마스크 및 펠리 클 기술 개발과 양산을 위한 신규 장비를 구입하기 위해

200907,SK증권)

-에스앤에스텍은 EUV용 펠리클과 블랭크마스크개발 중이며, 고객사의 대규모 EUV장비 도입에 따라 빠른 국산화 기대

블랭크마스크는 일본의 호야, 신에츠, 울코트 등이 90% 내외 점유하고있는 국산화 필수 품목

비메모리는 포토마스크 사용량이 많아 블랭크마스크 공급 증가가 기대됨.

한국의 EUV 소재/부품 관련 생태계는 2021년부터 본격적으로 개화할 것으로 전망됨

삼성전자와 SMIC의 파운드리 증설로 비메모리향 블랭크마스크 증가가 기대됨

 

201030,SK증권)

당사는 EUV 펠리클 매출은 2021 년 하반기부터, EUV 블랭크마스크 매출은 2022 년부터 발생하며 향후 에스앤에스텍 실적 고성장을 이끌 것으로 전망한다.

2022 년 실적에 PER 30 배를 적용한 목표주가 55,000 원을제시하며 커버리지를 개시한다.

 

201207,SK증권)

에스앤에스텍은 현재 C-Si 타입의 1 세대 펠리클(투과율 87%)을 개발 완료 했으며

투과율 88% 이상, 투과 균일도가 더 높고, 보다 High Power 에 견딜수 있는 2 세대 제품(Metal based Pellicle)을 개발 중

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- 총평

: 연결 기준 매출액은 1,662억원으로 전년 대비 32.2% 증가하였고, 영업이익과 당기순이익은 각각 248억, 187억원으로 전년 대비 31,6%, 2.2% 성장하였다.

펠리클과 장비 매출 모두 20. 3Q를 바닥으로 증가하고 있는데 전방 업체들의 가동률 상승과 신규 투자 증가 때문이다. 장비 매출은 올해부터 내년까지 계속 투자가 진행될 예정이니 늘어날 것이고, 펠리클 또한 신규 투자와 가동률 상승으로 수요가 증가할 것이다. 여기에 국내 디스플레이 뿐만 아니라 중국 디스플레이 향 FPD 펠리클도 있으니 매출은 계속해서 늘어날 것이다.

4분기에 매출액 증가에 비해 영업이익이 안 나온 이유는 인건비와 연구개발비 증가 때문이고 상대적으로 펠리클보다 칠러의 원가 비중이 높기 때문이다. 펠리클의 매출 비중이 늘어야 이익이 많이 늘어나는 구조이다.

연구개발 실적에서 바뀐 내용을 살펴보면, 먼저 칠러에서 챔버통합형 칠러 개발을 볼 수 있다. TOP과 BOTTOM 2개의 채널 통합하여 컨트롤하는 칠러인 것 같다.

EUV 관련해서는 EUV 펠리클 마운터와 디마운터 부분이 추가되었는데 현재 실장 평가 진행 중인 것 같다. LSM(Laser Scanning Microscope)에서는 연내 장비 납품을 위한 제작 중이었는데 개발 완료 및 양산장비 출하하여 셋업 진행 중으로 바뀌었다. 펠리클/마스크 광학 검사 장비에서는 고객 연구 라인에 납품하여 양산 라인 진출 중으로 바뀌었다. 연구개발을 꾸준히 진행 중이고, 유의미한 성과들이 하나씩 나오는 것을 확인할 수 있다.

얼마전에 삼성전자의 지분투자도 있었고, 자회사 오로스테크놀로지의 상장도 있었다. 올해 기존 펠리클과 칠러의 수요도 늘어나는데 자회사의 성장과 EUV 관련 유의미한 성과도 나올 예정이니 앞으로 많이 기대된다.

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