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[FST]

211025 대신) 이수빈 3만
가장 적극적인 EUV 전용 소재/장비사
-일본 미츠이케미칼은 EUV 전용 펠리클을 판매하기 위해 ASML 과 라이선스 계약을 체결
 지난 5월 EUV 전용 펠리클 양산을 시 작했다고 발표함.
 이에 따라, 2022년 하반기에 양산 예정인 TSMC의 N3 공정에서는 EUV 펠리클을 사용할 가능성 대두
-에프에스티는 ArF 및 ArF-i 전용 펠리클에서 약 80%의 시장점유율을 보유
  EUV 전용 펠리클 양산 또한 SiC 기반으로 준비
-EUV 마스크 자동 탈부착장비(EMPD), EUV 펠리클 검사장비 (EPIS), EUV POD 검사장비(EPODIS) 등 EUV 노광 공정 전용 신규장비 도 고객사로부터 긍정적인 평가 결과 도출 ->22년 매출 기대

200907,SK증권)

-국내 1위 펠리클(포토마스크 오염방지 부품, 국내 반도체 펠리클 M/S80% 수준)생산업체로,EUV용 펠리클개발 성공에 대한 기대감 존재.

-전자부품연구원 주도의 ‘5나노급 이하 반도체 노광공정용 EUV흡수 및 투과 소재기술’ 개발 국책과제 참여 중

-ASML과 펠리클 선두업체 Mitsui Chemical이 2019년 5월 31일 EUV펠리클관련 기술협약 체결하며 EUV공정에서 펠리클 필요성 부각

  ->FST랑은 상관이 없음

-EUV용 펠리클 단가는 개당 가격이 2,000만원~3,000만원 사이로 추정돼,개발 성공시 기존 펠리클 사업부에 큰 업사이드 보유(기존 제품인 ArF 펠리클은 개당 수백만원 수준).

-삼성전자 신규라인(시안, 평택)과 중국 디스플레이 관련 투자 사이클에 따른 실적 성장 예상. EUV 산업동향 및

에프에스티의 실리콘카바이드(SiC) 기반 EUV용 펠리클 개발 현황에 주목이 필요 

 

201218, DB)

-반도체 부품 + 장비:

-펠리클 맛집:

-튼튼한 자회사:반도체 막의 Overlay 계측 장비를 생산하는 오로스테크놀로지

                     EUV 마스크 결함이나 패턴을 검사하는 이솔

                     정밀세라믹부품 프로브카드업체 화인세라텍이다

 

[SST]

210716 하나 김경민) 
시설 투자를 결정한 이유는 EUV(극자외선) 노광 장비용 블랭크 마스크 및 펠리 클 기술 개발과 양산을 위한 신규 장비를 구입하기 위해

200907,SK증권)

-에스앤에스텍은 EUV용 펠리클과 블랭크마스크개발 중이며, 고객사의 대규모 EUV장비 도입에 따라 빠른 국산화 기대

블랭크마스크는 일본의 호야, 신에츠, 울코트 등이 90% 내외 점유하고있는 국산화 필수 품목

비메모리는 포토마스크 사용량이 많아 블랭크마스크 공급 증가가 기대됨.

한국의 EUV 소재/부품 관련 생태계는 2021년부터 본격적으로 개화할 것으로 전망됨

삼성전자와 SMIC의 파운드리 증설로 비메모리향 블랭크마스크 증가가 기대됨

 

201030,SK증권)

당사는 EUV 펠리클 매출은 2021 년 하반기부터, EUV 블랭크마스크 매출은 2022 년부터 발생하며 향후 에스앤에스텍 실적 고성장을 이끌 것으로 전망한다.

2022 년 실적에 PER 30 배를 적용한 목표주가 55,000 원을제시하며 커버리지를 개시한다.

 

201207,SK증권)

에스앤에스텍은 현재 C-Si 타입의 1 세대 펠리클(투과율 87%)을 개발 완료 했으며

투과율 88% 이상, 투과 균일도가 더 높고, 보다 High Power 에 견딜수 있는 2 세대 제품(Metal based Pellicle)을 개발 중

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